検索対象:     
報告書番号:
※ 半角英数字
 年 ~ 
 年
検索結果: 4 件中 1件目~4件目を表示
  • 1

発表形式

Initialising ...

選択項目を絞り込む

掲載資料名

Initialising ...

発表会議名

Initialising ...

筆頭著者名

Initialising ...

キーワード

Initialising ...

使用言語

Initialising ...

発行年

Initialising ...

開催年

Initialising ...

選択した検索結果をダウンロード

論文

Properties of thin boron coatings formed during deuterated-boronization in JT-60

柳生 純一; 荻原 徳男; 西堂 雅博; 岡部 友和; 平塚 一; 三代 康彦; 楢本 洋; 山本 春也; 竹下 英文; 青木 康; et al.

Journal of Nuclear Materials, 241-243, p.579 - 584, 1997/00

 被引用回数:15 パーセンタイル:74.12(Materials Science, Multidisciplinary)

デカボランを用いたボロナイゼーションでは、第一壁上に作製されたボロン膜中に10-12%の軽水素が含まれる。重水素放電を実施した際、この軽水素がプラズマ燃料を希釈してしまうため、ボロナイゼーション後に約100ショットの調整放電が必要であった。軽水素濃度を減らす目的で、重水素化ボロナイゼーションを実施した。作製したボロン膜を分析したところ、ボロン膜中に軽水素は、2-4%に減少していることが判った。重水素放電においても、ボロナイゼーション直後からプラズマ中の軽水素濃度は少なく、調整放電も不要であった。更に、ボロン膜を内壁全面に渡って均一に作製するために、真空容器内にデカボランガス供給口を12箇所設けた。その結果、トロイダル方向に105nm-255nm厚さのボロン膜が作製された。

論文

Wall temperature dependence of boronization using decaborane and diborane

山華 雅司*; 江島 猛*; 西堂 雅博; 荻原 徳男; 菅井 秀郎*

Japanese Journal of Applied Physics, 32(9A), p.3968 - 3974, 1993/09

 被引用回数:14 パーセンタイル:60.85(Physics, Applied)

2種類のボロン水素化物、デカボラン及びジボランをボロン源とする2種類のボロナイゼーション、熱分解法及びプラズマCVD法、を実施し、作製したボロン膜の特性(水素含有量、酸素ゲッター作用、水素リサイクリング特性)について調べた。作製したボロン膜の水素含有量については、熱分解法の方が、プラズマCVD法により、含有量が多くなること、また、両者共壁温が高くなる程、含有量が低減することが明らかになった。また、デカボランで作製したボロン膜について、同じ壁温で作製する限り、熱分解法とプラズマCVD法との間に、酸素ゲッター作用に違いのないことが判明した。さらに、同じ壁温で作製したボロン膜の水素の取り込みについては、デカボランの方がジボランより約3倍程度大きくなることが明らかになった。

論文

Initial boronization of JT-60U tokamak using decaborane

西堂 雅博; 荻原 徳男; 嶋田 道也; 新井 貴; 平塚 一; 小池 常之; 清水 正亜; 二宮 博正; 中村 博雄; 神保 龍太郎*; et al.

Japanese Journal of Applied Physics, 32(7), p.3276 - 3281, 1993/07

 被引用回数:57 パーセンタイル:90.95(Physics, Applied)

JT-60Uにおいて、プラズマ不純物の低減を図ることを目的に、デカボランを用いたボロンコーティングを2度実施した。ボロンコーティングにより作製されたボロン被膜の膜厚、元素組成及びその分布を走査型電顕、オージェ電子分光法、核反応解析法により測定し、以下の事が明らかになった。(1)デカボラン吹き出し口付近の膜厚は80nmであるのに対して、トロイダル方向に約180°離れた場所での膜厚は約2nmとうすく、不均一な分布となっている。(2)H濃度は約10%である。(3)ボロン含有量は90%以上であり、H以外含まず純度が高い。これら膜の特性と、プラズマ不純物低減効果との関係について考察した。

論文

A Boronization system in the JT-60U tokamak; Application of a new method using a less hazardous substance

西堂 雅博; 平塚 一; 新井 貴; 閨谷 譲; 嶋田 道也; 小池 常之

Fusion Engineering and Design, 22, p.271 - 275, 1993/00

 被引用回数:32 パーセンタイル:96.57(Nuclear Science & Technology)

ジボランより危険性の少ないデカボランを用いたその場ボロン化処理(ボロナイゼーション)装置を製作し、JT-60Uに設置した。本装置の目的は、JT-60U第一壁表面にボロン膜を作製し、JT-60Uプラズマ中の不純物を低減することにある。本論文では、装置の概要及び、デカボランを用いるとガス供給系が常に大気圧より低く装置自体が受動的安全性を有するなど装置の優れた特長について述べる。さらに本装置を用いて行ったその場ボロン化処理の結果、酸素不純物が著しく減少し、プラズマ性能の向上、プラズマ放電のスムーズな着火など、良好な結果が得られていることについても、述べる。

4 件中 1件目~4件目を表示
  • 1